【離子鍍的歷史】： 真空離子鍍膜技術(shù)是近幾十年才發(fā)展起來(lái)的一種新的鍍膜技術(shù)。在離子鍍技術(shù)興起的40多年來(lái)取得了巨大的進(jìn)步，我國也有將近30多年的離子鍍研究進(jìn)程。 【離子鍍的原理】： 蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子撞擊后沉積在固體表面稱(chēng)為離子鍍。蒸發(fā)源接陽(yáng)極，工件接陰極，當通以三至五千伏高壓直流電以后，蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電。由于 真空罩內充有惰性氬氣，在放電電場(chǎng)作用下部分氬氣被電離，從而在陰極工件周?chē)纬梢坏入x子暗區。帶正電荷的氬離子受陰極負高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表 面，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后，接通蒸發(fā)源交流電源，蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，進(jìn)入輝光放電區并 被電離。帶正電荷的蒸發(fā)料離子，在陰極吸引下，隨同氬離子一同沖向工件，當拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過(guò)濺失離子的數量時(shí)，則逐漸堆積形成一層牢固粘 附于工件表面的鍍層。 【離子鍍的優(yōu)缺點(diǎn)】： 優(yōu)點(diǎn)：膜層附著(zhù)力好，膜層致密，具有繞度性能，能在形狀復雜的零件表面鍍膜。 缺點(diǎn)：離子鍍的應用范圍不廣；膜與基體間存在較寬的過(guò)渡界面。會(huì )有氣體分子吸附。真空鍍膜設備技術(shù)教程。中國臺灣真空鍍膜設備公司

【真空鍍膜設備的分類(lèi)】：這個(gè)問(wèn)題如果在十年之前，其實(shí)是很容易回答的，就是兩個(gè)大類(lèi)，物理沉積設備和化學(xué)沉積設備?，F在這樣回答也是沒(méi)錯的，但現在再這樣回答就沒(méi)辦法把事情說(shuō)清楚了，所以從應用領(lǐng)域上可以分成以下幾類(lèi)：傳統光學(xué)器件（鏡片，濾光片）所用的鍍膜設備：?jiǎn)吻惑w或多腔體蒸發(fā)式鍍膜設備，濺射式鍍膜設備。新材料領(lǐng)域的柔性設備：卷對卷柔性鍍膜設備。光通訊行業(yè)：離子束濺射鍍膜設備。半導體及相似工藝：化學(xué)氣相沉積設備。功能膜：多弧離子鍍設備，濺射設備，蒸發(fā)設備玻璃工藝：濺射式連續線(xiàn)其余的就得歸到“工藝定制設備”這個(gè)范圍里面了，例如車(chē)燈鍍膜設備，太陽(yáng)能的共蒸發(fā)設備，光纖鍍膜設備，太陽(yáng)能管設備等等陜西真空鍍膜設備的使用方法真空鍍膜設備的主要應用。

【離子鍍膜法之射頻離子鍍】： 射頻離子鍍(RFIP):利用電阻或電子束加熱使膜材氣化；依靠射頻等離子體放電使充入的真空Ar及其它惰性氣體、反應氣體氧氣、氮氣、乙炔等離化。這種方法的特點(diǎn)是：基板溫升小，不純氣體少，成膜好，適合鍍化合物膜，但匹配較困難?？蓱糜阱児鈱W(xué)器件、半導體器件、裝飾品、汽車(chē)零件等。射頻離子鍍膜設備對周遭環(huán)境沒(méi)有不利影響，符合現代綠色制造的工業(yè)發(fā)展方向。目前，該類(lèi)型設備已經(jīng)guang泛用在硬質(zhì)合金立銑刀、可轉位銑刀、焊接工具、階梯鉆、鉆頭、鉸刀、油孔鉆、車(chē)刀、異型刀具、絲錐等工具的鍍膜處理上。 此外，離子鍍法還包括有低壓等離子體離子鍍，感應離子加熱鍍，集團離子束鍍和多弧離子鍍等多種方法。

、根據自己的產(chǎn)品定位來(lái)選擇鍍膜機廠(chǎng)家的等級。如果產(chǎn)品定位是市場(chǎng)，那就要對應選擇中的設備，如果不是那就選擇中端或者低端即可。第二、中的鍍膜機設備穩定性一定要好，且要保證配件的可靠性。因為真空鍍膜機本身就是一個(gè)比較復雜的系統，包括真空、自動(dòng)化等多個(gè)系統，任何一個(gè)系統的部件不可靠都會(huì )直接影響著(zhù)整個(gè)機器運行的穩定性和可靠性，從而給生產(chǎn)帶來(lái)不便。第三、可以觀(guān)察一下同行業(yè)或者一些的公司都在使用哪家的真空鍍膜機，這也是減小風(fēng)險的一種有效方式。真空鍍膜設備的工作原理和構成。

【真空鍍膜改善薄膜應力】： 1. 鍍后烘烤，Zui后一層膜鍍完后，烘烤不要馬上停止，延續10分鐘“回火”。讓膜層結構趨于穩定。 2. 降溫時(shí)間適當延長(cháng)，退火時(shí)效。減少由于真空室內外溫差過(guò)大帶來(lái)的熱應力。 3. 對高反膜、濾光膜等在蒸鍍過(guò)程中，基片溫度不宜過(guò)高，高溫易產(chǎn)生熱應力。并且對氧化鈦、氧化鉭等膜料的光學(xué)穩定性有負面影響。 4. 鍍膜過(guò)程離子輔助，減少應力。 5. 選擇合適的膜系匹配，第yi層膜料與基片匹配。 6. 適當減小蒸發(fā)速率。 7. 對氧化物膜料全部充氧反應鍍，根據不同膜料控制氧進(jìn)氣量。真空鍍膜機詳細鍍膜方法。福建索佳真空鍍膜設備有限公司

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【真空鍍膜機概述】：真空鍍膜機主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類(lèi)，包括真空電阻加熱蒸發(fā)，電子搶加熱蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積，離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。真空鍍膜機構造的五大系統：排氣系統、控制系統、蒸鍍系統、監控系統、輔助系統。真空鍍膜三要素：真空度、抽氣時(shí)間、溫度；任何鍍膜工藝都需要為這三個(gè)要素設定目標值；因此，只有當三個(gè)條件同時(shí)滿(mǎn)足時(shí)，自動(dòng)化程序才會(huì )自動(dòng)運行。真空鍍膜機需要做定期定期保養，目的在于：讓鍍膜機能長(cháng)時(shí)間地正常運轉；降低故障時(shí)間，避免影響產(chǎn)能，減少損失；提高機器精度，穩定品質(zhì)；加快抽氣速度，提升機器利用率等。中國臺灣真空鍍膜設備公司

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